レーザーテックのHPより 半導体の製造プロセスで用いられる最新の検査装置を開発するレーザーテック株式会社の成長期待が高まっている。最大のポイントは、同社が極端紫外線=EUVなど新しい光学の技術を用いることによって、これまでにはない検査技術を確立したことだ。現に、EUVを用いたマスクブランクスの検査装置に関しては、世界でレーザーテックしか生産できない。同社の受注は堅調に増加している。 当面、同社の検査技術に対する需要は増加...
レーザーテックのHPより 半導体の製造プロセスで用いられる最新の検査...